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塑料pvd镀膜机与您分享真空<10-6 pa

在高真空状态下，每立方厘米的气体分子数在100个以下。分子间的碰撞很少，分子主要与容器壁相碰撞。高真空的用途之一是得到纯净的气体，其二是获得纯净的固体表面。此时气体分子在固体表面上是以吸附停留为主。

利用真空技术可获得与-情况不同的真空状态。电子材料、电子元器件和半导体集成电路的研制和生产与真空技术有着密切的关系。真空技术已广泛用于工业生产、科学实验和-的研究等领域。

塑料pvd镀膜机与您分享如果生产过程中的真空度不够，表面上沾了灰尘或油滴之后会出现-的后果。集成电路中细线的宽度是-时吐出的烟雾颗粒直径的1/3，是一粒灰尘直径的近万分之一。对集成电路而言，哪怕落有一颗烟雾的颗粒，就好像大路上停了一架大型飞机一样，使电子无法通过或造成短路。

新材料开发离不开真空。

以分子束外延为代表的薄膜生长技术是新材料开发的重要手段，薄膜材料放到蒸发源中之后被蒸发或升华，在高真空环境中，薄膜材料的原子或分子可以长距离飞行，到达衬底成膜;而且由于残留气体少，衬底表面形成的薄膜纯度高。

表面科学领域对真空度的要求高。

塑料pvd镀膜机与您分享pvd镀膜工艺真空蒸发(vacuum evaporation)

金属在真空中加热时会变成气体而蒸发，真空蒸发就是利用此原理。处理时多在10-5torr以下的真空中进行，金属及各种化合物都可当作被附着物质，其应用例有镜片、反射镜、塑胶零件等；但是以金属表面硬化为目的的用途则很少，主要多用于装饰性物件。